X射线光刻（X-ray lithography）技术是电子工业中用于选择性去除一部分薄膜的工艺。使用X射线将几何图形转移光敏光刻胶上。然后进行一系列化学处理，将产生的图案雕刻到光刻胶下方的材料中。
2022-12-28 09:20
“Thick Film Lithography”字面上直译为“厚膜光刻”或“厚膜光蚀”。事实上，“厚膜光刻”虽然目前应用的领域没有达到广泛普及的程度，只是应用于业内前沿产品，但也是业界熟知的工艺，早在上世纪末，该技术已有针对PDP的商业化应用，国内外已开始相关研究。
2022-01-06 15:21
近年来，随着以电子束刻蚀(Electron Beam Lithography)和聚焦离子束刻蚀(Focused Ion Beam Lithography)为代表的“至顶向下”式纳米加工技术的日趋成熟，大规模加工纳米尺度的金属与介质结构成为可能，光频段电磁天线(简称
2016-10-27 11:41
纳米压印技术，即Nanoimprint Lithography（NIL），是一种新型的微纳加工技术。该技术将设计并制作在模板上的微小图形，通过压印等技术转移到涂有高分子材料的硅基板上。
2023-05-19 09:37
电子束光刻（e-beam lithography，EBL）是无掩膜光刻的一种，它利用波长极短的聚焦电子直接作用于对电子敏感的光刻胶（抗蚀剂）表面绘制形成与设计图形相符的微纳结构。
2024-03-04 10:19
在半导体加工工艺中，常听到的两个词就是光刻(Lithography)和刻蚀(Etching)，它们像俩兄弟一样，一前一后的出现，有着千丝万缕的联系，这一节介绍半导体刻蚀工艺。
2024-01-26 10:01
在万物互联，AI革命兴起的今天，半导体芯片已成为推动现代社会进步的心脏。而光刻(Lithography)技术，作为先进制造中最为精细和关键的工艺，不管是半导体芯片、MEMS器件，还是微纳光学元件都离不开光刻工艺的参与，其重要性不言而喻。本文将带您一起认识光刻工艺的基本知识。
2024-08-26 10:10
计算光刻 (Computational Lithography)技术是指利用计算机辅助技术来增强光刻工艺中图形转移保真度的一种方法，它是分辦率增强技术(ResolutionEnhancement
2022-10-26 15:46
在探索微观世界的奥秘中，纳米技术以其独特的尺度和潜力，开启了一扇通往未知领域的大门。纳米压印技术（Nanoimprint Lithography, NIL），作为纳米制造领域的一项高精度的微纳加工
2024-08-26 10:05
。 阿斯麦公司ASML Holding NV创立于1984年，是从飞利浦独立出来的一个半导体设备制造商。前称ASM Lithography Holding N.V.，于2001年改为现用名
2019-05-15 17:56
