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的升级、导线与栅极尺寸的缩小，光刻(Lithography)技术对晶圆表面的平坦程度(Non-uniformity)的要求越来越高。化学机械研磨亦称为化学机械抛光，其原理是化学腐蚀作用和机械去除作用相结合
2018-09-03 09:31
工艺的验证。复制工艺包括热压法（hot embossing）、紫外线纳米压印光刻法（UV-nano imprint lithography）和微接触压印法（micro contact printing
2021-01-09 10:15
