lithography是一种平板印刷技术，在平面光波回路的制作中一直发挥着重要的作用。具体过程如下：首先在二氧化硅为主要成分的芯层材料上面，淀积一层光刻胶；使用掩模版对光刻胶曝光固化，并在
2018-08-24 16:39
Maskless Lithography公司近日首次公开推出全新的可提高印制电路板（PCB）生产门槛的直写数字成像技术。Maskless Lithography是硅谷一家由一群行业资深人士领导
2018-09-17 17:16
易用性：HyperLith的图形用户界面（GUI）设计得非常简洁，特别适合mask-in-stepper lithography仿真。用户可以选择预定义的掩模技术、图案和抗蚀剂模型，或者自定义
2024-11-29 22:18
本帖最后由 iweimo 于 2014-10-20 15:07 编辑 先分享光刻的参考资料。============================2014-10-17========光刻分类如上图所示，光刻可分为三类，接触光刻、接近光刻和投影光刻。接触光刻：顾名思义，mask和wafer是相互接触的，这种方式能保证较高的resolution（接近波长），但是缺点很明显，mask容易损坏。接近光刻：mask和wafer保持了一定距离，从而保护了mask，但是牺牲了resolution（~（根号gλ））g=mask-wafer之间距离。投影光刻：通过投影的方式将mask的图案转移到wafer上。结合了前两者的优点，并克服了前两者的缺点。Resolution=k1λ/NA============================2014-10-20========常用的光源有水银灯：波长300~500nmKrF：波长248.8nmArF：波长193nm衍射效应对光刻图案的影响左图是理想的光强分布，由于光的衍射效应，实际的光强分布如右图所示。当光的波长与mask的特征尺寸可比时，会产生明显的衍射效应。如上图所示，透过mask的光相互叠加，使得不该受到光照的区域被曝光。
2014-09-26 10:35
differentiated DLP technology uses stereo-lithography technique popular in high accuracy
2015-03-10 14:35
years lithography experience in semiconductor industry will be better. 3.Strong computer
2016-10-31 11:23
這是*附件：ArF.pdf英文版, 對IC 製作有興趣而又喜歡原版的可以看看。
2022-11-22 11:00
utilizing three-dimensional in situ electron-beam lithography. Nat. Comm. 6, 7662 (2015).
2025-03-13 08:54
| 在3D打印领域中，SLA立体光固化成型（Stereo Lithography Appearance，SLA）是最早出现的快速原型制造工艺之一，这项技术由Chuck Hull在20 世纪80 年代
2025-01-09 18:57
射线光刻 X-ray lithography电子束光刻 electron beam lithography离子束光刻 ion beam lithography深紫外光刻 deep-UV
2018-06-29 09:39
