化学气相沉积 (Chemical Vapor Deposition, CVD）是指不同分压的多种
2022-11-04 10:56
：物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积（
2024-03-28 14:22
集成电路前道工艺及对应设备主要分八大类，包括光刻（光刻机）、刻蚀（刻蚀机）、薄膜生长（PVD-物理气相沉积、CVD-化学气
2023-05-30 10:47
集微网消息， 作为国内最大的晶圆代工厂，中芯国际在2019年向美国泛林半导体公司购买了大量半导体设备，如蚀刻机、CVD（化学气相
2020-04-15 16:31
在工业自动化、医疗设备及消费电子领域，薄膜压力传感器正朝着微型化、柔性化、高稳定性方向快速发展。以采用17-4PH不锈钢弹性体的压敏元件为例，其通过CVD（化学气相
2025-04-03 11:43
高密度等离子体化学气相淀积(HDP CVD)工艺随着半导体技术的飞速发展，单个芯片上所能承载的晶体管数量以惊人的速度增长，与此同时，半导体制造商们出于节约成本的需要迫
2009-12-17 14:49
的激光加工方法或机械、化学加工方法，在半导体与其它工业应用中具有很大的发展潜力。 在划片、切割、结构构造、过孔钻孔等微加工领域广泛使用DPSS激光器对以下材料进行加工：硅片、蓝宝石、CVD化学
2017-10-19 14:12
虽然在商用化学气相沉积设备中可以在一次运行中实现多片4H－SiC衬底的同质外延生长，但是必须将晶片装载到可旋转的大型基座上，这导致基座的直径随着数量或者外延晶片总面积的
2020-12-26 03:52
