CMOS 集成电路的基础工艺之一就是双阱工艺，它包括两个区域，即n-MOS和p-MOS 有源区
2022-11-14 09:34
本文主要介绍CMOS集成电路基本制造工艺，特别聚焦于0.18μm工艺节点及其前后的变化，分述如下：前段工序（FrontEnd）；0.18μmCMOS前段工序详解；0.1
2025-03-20 14:12
CMOS 集成电路的基础工艺之一就是双阱工艺，它包括两个区域，即n-MOS和p-MOS 有源区，分別对应p阱和N阱，如图所示。在进行阱注入时，产业内的主流技术多数采用倒
2022-11-14 09:32
近年来，有关将CMOS工艺在射频（RF）技术中应用的可能性的研究大量增多。深亚微米技术允许CMOS电路的工作频率超过1GHz，这无疑推动了
2012-05-21 10:06
CMOS 集成电路使用操作准则 CMOS 集成电路使用操作准则 所有 MOS 集成电路 （包括
2009-11-30 11:08
CMOS集成电路使用操作原则 所有MOS集成电路（包括 P 沟道 MOS， N 沟道 MOS， 互补 MOS — CMOS 集
2010-02-05 09:23
CMOS（互补金属氧化物半导体）集成电路是一种广泛使用的半导体技术，用于构建各种电子电路和集成电路。
2024-05-28 15:32
极高的可集成度而成为现代集成电路工艺的主流。为了使 MOSFET 获得更快的速度，人们开发出 **CMOS集成电路双极—
2023-05-06 10:38
CMOS集成电路的性能及特点 CMOS（Complementary Metal-Oxide-Semiconductor）是一种广泛应用的集成电路（IC）制造技术，它采
2023-12-07 11:37
CMOS集成电路的性能及特点
2006-06-30 19:29
