COMS工艺制程技术主要包括了：1.典型工艺技术：①双极型工艺技术② PMOS工艺技术③NMOS
2019-03-15 18:09
CMOS工艺锂电池保护电路图的实现
2012-08-06 11:06
电子技术工艺基础
2015-12-21 23:21
RICOH于2014年12月2日推出一款基于CMOS的电压监测IC---R3151NxxxA，该产品提供了耐高压的电阻、具备高电压精度和低电源电流。适用于电池电压监控。R3151NxxxA 提供
2016-11-22 16:19
内部结构 数字隔离器充当提供电流隔离数字信号路径的基本（或通常是加强型）功能。来自德州仪器（TI）的隔离结构是电容性的，其绝缘屏障由我们互补的金属氧化物半导体（CMOS
2022-11-09 06:49
设计技术增强了开关组件中的隔离
2019-05-30 07:10
超大规模集成电路制造技术CMOS技术半导体表面经过各种处理步骤，其中添加了具有特定几何图案的杂质和其他材料制造步骤按顺序排列以形成充当晶体管和互连的三维区域MOSFET 的简化视图
2021-07-09 10:26
Deere、Rockwell Automation 以及 Siemens 等工业领域巨头都考虑将 CMOS 放大器作为较低成本的平台，但它们很少将其用于实现高性能。尽管双极性技术依然盛行，但新型
2022-11-21 07:45
电容隔离技术和专有集成平面变压器（磁隔离），以及先进的封装和工艺技术，力求提升我们大型且品类齐全的隔离式 IC 产品系列
2022-11-03 08:04
单位一位一位读取，再经过传感器边缘的放大器进行放大输出，所以速度较慢；CMOS中每个像素都会连接一个放大器及模/数转换电路，读取十分简单，速度较快。1.2 CCD制作工艺复杂，成本高，传输图像中不会丢失信息，而CMOS
2021-07-26 06:32
