BCD（Bipolar-CMOS-DMOS）工艺技术是将双极型晶体管、CMOS（互补金属氧化物半导体）和DMOS（双扩散金属
2024-03-18 09:47
CMOS是一个简单的前道工艺，大家能说说具体process吗
2024-01-12 14:55
金属离子电池的化学
2022-12-28 09:51
书籍：《炬丰科技-半导体工艺》文章：CMOS 单元工艺编号：JFSJ-21-027作者：炬丰科技网址：http://www.wetsemi.com/index.html晶圆生产需要三个一般过程：硅
2021-07-06 09:32
离子渗金属是在低真空炉体中，利用辉光放电即低温等离子体轰击的方法，使工件表面渗入金属元素。实现离子渗
2009-12-21 13:37
使用等离子清洗技术清洗晶圆去除晶圆表面的有机污染物等杂质，但是同时在等离子产生过程中电极会出现金属离子析出，如果金属
2021-06-08 16:45
CMOS工艺，具体的是CMOS结构对集成电路设计有帮助，谢谢
2016-03-18 15:35
金属层2（M2）工艺与金属层1工艺类似。金属层2工艺是指形成第二层
2024-10-24 16:02
离子注入工艺资料~还不错哦~
2012-08-01 10:58
互补金属氧化物半导体（CMOS）技术是现代集成电路设计的核心，它利用了N型和P型MOSFET（金属氧化物半导体场效应晶体管）的互补特性来实现低功耗的电子设备。CMOS
2025-05-23 16:30
