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  • 详解先进的半导体工艺FinFET

    FinFET称为鳍式场效晶体管(FinField-EffectTransistor;FinFET)是一种新的互补式金氧半导体(CMOS)晶体管。

    2017-02-04 10:30

  • MEMS 与CMOS 集成工艺技术的区别

    Pre-CMOS/MEMS 是指部分或全部的 MEMS 结构在制作 CMOS 之前完成,带有MEMS 微结构部分的硅片可以作为 CMOS 工艺的初始材料。

    2022-10-13 14:52

  • 采用CMOS工艺的射频设计研究

    近年来,有关将CMOS工艺在射频(RF)技术中应用的可能性的研究大量增多。深亚微米技术允许CMOS电路的工作频率超过1GHz,这无疑推动了集成CMOS射频电路的发展。目

    2017-11-25 11:07

  • FinFET工艺的布局布线的三大挑战

    FinFET 同样带来了更多限制,例如电压阈值感知间隔、植入层规则等。这些因素将影响摆设、布局规划和优化引擎,还会直接影响设计的利用率和面积。多重图案拆分收敛和时序收敛相互依存,可以增加设计收敛时间。

    2018-04-04 14:23

  • 使用虚拟实验设计预测先进FinFET技术的工艺窗口和器件性能

    负载效应 (loading) 的控制对良率和器件性能有重大影响,并且它会随着 FinFET(鳍式场效应晶体管)器件工艺的持续微缩变得越来越重要[1-2]。当晶圆的局部刻蚀速率取决于现有特征尺寸和局

    2023-01-06 10:48

  • 22nm技术节点的FinFET制造工艺流程

    引入不同的气态化学物质进行的,这些化学物质通过与基材反应来改变表面。IC最小特征的形成被称为前端制造工艺(FEOL),本文将集中简要介绍这部分,将按照如下图所示的 22 nm 技术节点制造 FinFET工艺流程,

    2023-12-06 18:17

  • 借助虚拟工艺加速CMOS工艺优化

    我们不断向先进的CMOS的微缩和新存储技术的转型,导致半导体器件结构的日益复杂化。例如,在3D NAND内存中,容量的扩展通过垂直堆栈层数的增加来实现,在保持平面缩放比例恒定的情况下,这带来了更高

    2023-01-06 15:27

  • CMOS集成电路的双阱工艺简析

    CMOS 集成电路的基础工艺之一就是双阱工艺,它包括两个区域,即n-MOS和p-MOS 有源区

    2022-11-14 09:34

  • CMOS图像传感器的制造工艺

    根据图像传感器的应用和制造工艺,图像传感器可分为CCD图像传感器和CMOS图像传感器。 特别是CMOS图像传感器(CIS)不仅被搭载于数码相机,还被广泛应用于智能手机、平板电脑、CCTV、汽车黑匣子、无人驾驶车辆传感

    2024-01-24 09:30

  • 浅谈20世纪80年代CMOS工艺流程

    因为CMOS工艺易于集成化,并且相对较低的电路功耗,所以。个人电脑、互联网络和数字革命,强烈推动了对CMOS集成电路芯片的需求,基于CMOS

    2023-07-24 17:05