• 发文章

  • 发资料

  • 发帖

  • 提问

  • 发视频

创作活动
0
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
返回

电子发烧友 电子发烧友

  • 全文搜索
    • 全文搜索
    • 标题搜索
  • 全部时间
    • 全部时间
    • 1小时内
    • 1天内
    • 1周内
    • 1个月内
  • 默认排序
    • 默认排序
    • 按时间排序
  • 全部板块
    • 全部板块
大家还在搜
  • 193 nm ArF浸没式光刻技术和EUV光刻技术

    翁寿松(无锡市罗特电子有限公司,江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU:(1)美国俄勒冈州Fab PID厂,2007年下半年量产;(2)美国亚利桑那州Fab 32厂,投资30亿美元,2007年末量产;(3)以色列Fab 28厂,投资35亿美元,2008年上半年量产;(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂,投资10~15亿美元,从90 nm过渡至45 nm,它是英特尔产首座300 mm晶圆厂,也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上,英特尔将于2009年推出32nmMPU,2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存,3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。

    2019-07-01 07:22

  • 太阳能电池薄膜激光刻配了台特域冷水,用的是什么制冷

    太阳能电池薄膜激光刻配了台特域冷水,用的是什么制冷

    2017-11-25 14:30

  • 光刻胶有什么分类?生产流程是什么?

    光刻胶也称为光致抗蚀剂,是一种光敏材料,它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后,受到光照的

    2019-11-07 09:00

  • ADuM1400在上电和掉电瞬间输出状态不稳定

    你好,在一个单片控制H桥驱动芯片电路中,我采用了ADUM1400 磁耦隔离芯片,芯片输出输出都增加了下拉(电机高电平有效)。ADuM采用双电源供电,VE2引脚已经拉高。在使用过程中发现,当系统上电

    2019-01-14 06:15

  • STM32单片用途是什么?

    STM32单片用途是什么?

    2022-01-17 08:26

  • RAM在单片里的用途是什么?

    单片的数据存储手段有哪些?RAM在单片里的用途是什么?

    2021-11-01 07:58

  • 求助论坛的半导体工艺大神们,一个电子系研究生求助

    本人某985电子学院研一学生,我们导师在我刚来的时候就把一个课题给我去做,前期的材料与薄膜学长学姐们已经完成了,让我解决后期的光刻与器件制备等问题。本来我觉得是一个很好的锻炼自己的机会,就直接答应了

    2018-02-27 15:47

  • ADuM1400在上电或者掉电瞬间输出状态不稳定怎么解决?

    你好,在一个单片控制H桥驱动芯片电路中,我采用了ADUM1400 磁耦隔离芯片,芯片输出输出都增加了下拉(电机高电平有效)。ADuM采用双电源供电,VE2引脚已经拉高。在使用过程中发现,当系统上电

    2023-12-13 07:56

  • 我所了解的中国电子元器件行业

    光刻机厂家就剩下ASML。ASML是荷兰飞利浦公司的半导体部门拆分出来的独立公司(飞利浦半导体部门拆分出的另一家公司是NXP恩智浦,最近美国高通公司要收购NXP,需要得到中国***的批准,赶上美帝

    2018-06-13 14:40

  • 当XMC1400的供电超过了其最大工作电压,XMC1400的I/O引脚会是什么状态?

    当XMC1400 的供电超过了其最大工作电压,XMC1400的I/O 引脚会是什么状态?开路or GND? 会不会有确定的高电平输出状态?

    2024-05-23 07:30