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  • 光刻机工艺的原理及设备

    实际过程肯定没这么简单,上图是ASML典型的沉浸式步进扫描光刻机为例来看下光刻机是怎么工作的——首先是激光器发光,经过矫正、能量控制器、光束成型装置等之后进入光掩膜台,上面放的就设计公司做好的光掩膜

    2020-07-07 14:22

  • 光刻机是干什么用的

    把被摄物体的影像复制到底片上。  而ASML光刻机在做的光刻,我们称之为微影制程,原理是将高能雷射光穿过光罩(reticle),将光罩上的电路图形透过聚光镜(projectionlens),将影像缩小

    2020-09-02 17:38

  • 魂迁光刻,梦绕芯片,中芯国际终获ASML大型光刻机 精选资料分享

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    2021-07-29 09:36

  • 国内单片不断实现突破,国内单片的发展现状

    ,荷兰公司(ASML)横扫天下,谁先买到

    2018-09-03 16:48

  • 如果国家以两弹一星的精神投入光刻机

    如果国家以两弹一星的精神投入光刻机的研发制造,结果会怎样?

    2020-06-10 19:23

  • 电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极

    电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极 随着科技进步,对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关,电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长,而电子束聚焦后

    2025-05-07 06:03

  • 三种常见的光刻技术方法

    是分步投影光刻机.利用分步投影光刻机,再结合移相掩膜等技术,已经得到了最小线宽0.10微米的图形。 ◆接近式暴光与接触式暴光相似,只是在暴光时硅片和掩膜版之间保留有很小的间隙,这个间隙一般在10~25

    2012-01-12 10:56

  • 美国欧盟千亿美元硬砸芯片,他们掰,中国有三个机会!

    一条,制衡中国芯片发展,限制光刻机卖中国,禁止先进EDA工具卖给中国企业和高校,把TSMC忽悠到亚利桑那建3纳米fab。当然,TSMC也在担心美国人偷fab管理体

    2022-12-05 15:44

  • 一文带你了解芯片制造的6个关键步骤

    的步骤远不止这些,芯片还要经过量测检验、电镀、测试等更多环节,每块芯片在成为电子设备的一部分之前都要经过数百次这样的过程。 来源:本文转载自半导体行业观察,内容来自ASML

    2022-04-08 15:12

  • EUV热潮不断 中国如何推进半导体设备产业发展?

    ofweek电子工程网讯 国际半导体制造龙头三星、台积电先后宣布将于2018年量产7纳米晶圆制造工艺。这一消息使得业界对半导体制造的关键设备之一极紫外光刻机(EUV)的关注度大幅提升。此后又有媒体

    2017-11-14 16:24