翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
你好，有人知道这些文件是否存在吗？谢谢，阿斯尔·纽曼。
2019-10-22 09:33
本人某985电子学院研一学生，我们导师在我刚来的时候就把一个课题给我去做，前期的材料与薄膜学长学姐们已经完成了，让我解决后期的光刻与器件制备等问题。本来我觉得是一个很好的锻炼自己的机会，就直接答应了
2018-02-27 15:47
你好，有一个带有策略过滤器“WelelistCon”的外围设备。当中央设备（地址不包括白名单）连接失败时，会在外围设备中发生任何事件类型吗？谢谢您，阿斯尔·纽曼。
2019-10-22 10:26
喷胶机是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶，最大涂胶尺寸达8寸，得到厚度均匀的光刻胶层，同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶；通过
2020-03-23 09:00
对中兴禁运，那么，就拭目以待吧）。ＡＳＭＬ的主要股东是飞利浦，但三星，台积电和英特尔都占有股份。去年底，ASML的中国区销售总监对媒体说，ASML最先进的EUV光刻机对
2018-06-13 14:40
你好，有没有办法避免扫描发送响应或是连接过程的强制性的一部分吗？谢谢，阿斯尔·纽曼。 以上来自于百度翻译 以下为原文Hi,Is there a way to avoid scan response
2018-10-22 14:44
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
大家好，资源限制：SC固定块的最大数量超过（max＝4，需要＝5）。在我的设计中放置PGA时，我得到了这个错误。我使用PSoC 5LP，创建者3.2期待着您的答复。最好的问候阿维斯
2019-09-12 06:03
