关于光刻工艺的原理,大家可以想象一下胶片照片的冲洗,掩膜版就相当于胶片,而光刻机就是冲洗台,它把掩膜版上的芯片电路一个个的复制到光刻胶薄膜上,然后通过刻蚀技术把电路
2020-07-07 14:22
把被摄物体的影像复制到底片上。 而ASML光刻机在做的光刻,我们称之为微影制程,原理是将高能雷射光穿过光罩(reticle),将光罩上的电路图形透过聚光镜(projectionlens),将影像缩小
2020-09-02 17:38
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造,光刻机作为集成电路制造中最关键的设备,对芯片制作工艺有着决定性的影响,被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”,根据之前中芯国际的公报,目...
2021-07-29 09:36
如果国家以两弹一星的精神投入光刻机的研发制造,结果会怎样?
2020-06-10 19:23
电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极 随着科技进步,对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关,电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长,而电子束聚焦后
2025-05-07 06:03
是分步投影光刻机.利用分步投影光刻机,再结合移相掩膜等技术,已经得到了最小线宽0.10微米的图形。 ◆接近式暴光与接触式暴光相似,只是在暴光时硅片和掩膜版之间保留有很小的间隙,这个间隙一般在10~25
2012-01-12 10:56
,荷兰阿斯麦公司(ASML)横扫天下,谁先买到阿斯麦的光刻机,谁就能率先具备7nm工艺。国内单片机芯片:封测芯片做好后,得从晶圆上切下来,接上导线,装上外壳,顺便还得测
2018-09-03 16:48
可以做到多小。在这个阶段,晶圆会被放入光刻机中(没错,就是ASML生产的产品),被暴露在深紫外光(DUV)下。很多时候他们的精细程度比沙粒还要小几千倍。光线会通过“掩模版”投射到晶圆上,光刻机的光学系统
2022-04-08 15:12
子报》记者解释:“光刻是芯片制造技术的主要环节之一。目前主流的芯片制造是基于193nm光刻机进行的。然而193nm浸没光刻
2017-11-14 16:24
,尼康在ASML面前被打的毫无还手之力,高端光刻机市场基本被ASML占据。光刻机工作原理在加工芯片的过程中,
2018-09-03 09:31