将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
的光刻机厂家就剩下ＡＳＭＬ。ASML是荷兰飞利浦公司的半导体部门拆分出来的独立公司（飞利浦半导体部门拆分出的另一家公司是ＮＸＰ恩智浦，最近美国高通公司要收购ＮＸＰ，需要得到中国***的批准，赶上美帝
2018-06-13 14:40
if appropriate support and assistance to lessexperienced ASML or local personnel as necessary. -Should
2015-08-24 15:46
本人某985电子学院研一学生，我们导师在我刚来的时候就把一个课题给我去做，前期的材料与薄膜学长学姐们已经完成了，让我解决后期的光刻与器件制备等问题。本来我觉得是一个很好的锻炼自己的机会，就直接答应了
2018-02-27 15:47
STM32驱动舵机要隔离吗
2023-09-20 08:17
光刻掩膜设计与加工制造服务，请问可以加工二元光学器件吗？相位型光栅那种.
2024-04-22 06:24
单片机要学什么？单片机的最佳学习路线是怎样的？
2021-11-02 08:03
芯片是怎么产生技术
2019-05-09 02:46
光刻法制作叉指电极，叉指电极的图案用什么软件绘制，以及是否有绘制教程，刚接触这个，也没有师兄，希望大佬来指导一下
2022-05-04 19:56
