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  • 光刻机工艺的原理及设备

    实际过程肯定没这么简单,上图是ASML典型的沉浸式步进扫描光刻机为例来看下光刻机是怎么工作的——首先是激光器发光,经过矫正、能量控制器、光束成型装置等之后进入光掩膜台,上面放的就设计公司做好的光掩膜

    2020-07-07 14:22

  • 光刻机是干什么用的

    把被摄物体的影像复制到底片上。  而ASML光刻机在做的光刻,我们称之为微影制程,原理是将高能雷射光穿过光罩(reticle),将光罩上的电路图形透过聚光镜(projectionlens),将影像缩小

    2020-09-02 17:38

  • 魂迁光刻,梦绕芯片,中芯国际终获ASML大型光刻机 精选资料分享

    据羊城晚报报道,近日中芯国际从荷兰进口的一台大型光刻机,顺利通过深圳出口加工区场站两道闸口进入厂区,中芯国际发表公告称该光刻机并非此前盛传的EUV光刻机,主要用于企业复工复产后的

    2021-07-29 09:36

  • 如果国家以两弹一星的精神投入光刻机

    如果国家以两弹一星的精神投入光刻机的研发制造,结果会怎样?

    2020-06-10 19:23

  • 电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极

    电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极 随着科技进步,对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关,电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长,而电子束聚焦后

    2025-05-07 06:03

  • 三种常见的光刻技术方法

    微米之间,此间隙可以大大减少对掩膜版的损伤.接近式暴光的分辨率较低,一般在2~4微米之间,因此接近式光刻机只能装配在特征尺寸交大的集成电路生产线中.接触或接近式光刻机的主要优点是

    2012-01-12 10:56

  • EUV热潮不断 中国如何推进半导体设备产业发展?

    子报》记者解释:“光刻是芯片制造技术的主要环节之一。目前主流的芯片制造是基于193nm光刻机进行的。然而193nm浸没光刻技术很难支撑40nm以下的工艺生产,因此到了2

    2017-11-14 16:24

  • 半导体制造企业未来分析

    哪些市场信息? 晶圆代工厂不惜重金 在制造工艺演进到10nm之后,晶圆厂都在为摩尔定律的继续前进而做各种各样的努力,EUV则是被看作的第一个倚仗。而从EUV光刻机ASML的财务数据我们可以看到,其

    2020-02-27 10:42

  • 生产看板管理的机能

    工具,必须建立在推行JIT的基础之上。如果企业没有推行JIT就去直接使用MRP,那只会浪费时间和金钱。二、生产看板管理的机能生产看板管理最初是丰田汽车公司于20世纪50年代从超级市场的运行机制中得到

    2018-12-07 19:43

  • 一文带你了解芯片制造的6个关键步骤

    可以做到多小。在这个阶段,晶圆会被放入光刻机中(没错,就是ASML生产的产品),被暴露在深紫外光(DUV)下。很多时候他们的精细程度比沙粒还要小几千倍。光线会通过“掩模版”投射到晶圆上,

    2022-04-08 15:12