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  • 一文看懂asml光刻机工作原理及基本构造

    在半导体芯片制造设备中,投资最大、也是最为关键的是光刻机光刻机同时也是精度与难度最高、技术最为密集、进步最快的一种系统性工程设备。光学光刻技术与其它光刻技术相比,具有

    2018-04-10 11:26

  • asml光刻机股东是谁_asml光刻机股东介绍

    本文首先介绍了asml公司,其次介绍了关于asml公司的股东以及各个股东的简介,最后带领大家了解一下荷兰光刻机为什么受到青睐的厉害之处。

    2018-04-10 14:15

  • 光刻机结构组成及工作原理

    本文以光刻机为中心,主要介绍了光刻机的分类、光刻机的结构组成、光刻机的性能指标、光刻机的工艺

    2017-12-19 13:33

  • ASML光刻机工作原理及关键技术解析

    光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

    2020-10-09 11:29

  • 光刻机为何在我国是个难题

     光刻机是芯片制造最为重要的设备之一。目前,ASML垄断了全世界的高端光刻机。中国一直以来都想掌握光刻机技术,但是上海微电子经过17年的努力,才造出90nm的

    2020-01-29 11:07

  • 光刻机制造难度有多大?

    据cnBeta、环球网、快科技等多家媒体证实,近日长江存储从荷兰阿斯麦(ASML)公司订购的一台光刻机已抵达武汉。这台光刻机价值高达7200万美元,约合人民币4.6亿元。

    2018-11-22 15:32

  • ASML光刻机工作原理,光刻机制造难度有多大?

    的中国最好的***,与中国的大飞机、登月车并列。它的加工精度是90纳米,相当于2004年上市的奔腾四CPU的水准。国外已经做到了十几纳米。 ASML***的工作原理 ASML

    2019-05-15 17:56

  • 一文详解光刻机工作原理

    光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。

    2020-10-16 10:33

  • 看懂光刻机:光刻工艺流程详解

    光刻是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤,耗时长、成本高。半导体芯片生产的难点和关键点在于将电路图从掩模上转移至硅片上,这一过程通过光刻来实现, 光刻的工艺水

    2018-04-08 16:10

  • 提高光刻机性能的关键技术及光刻机的发展情况

    作为光刻工艺中最重要设备之一,光刻机一次次革命性的突破,使大模集成电路制造技术飞速向前发展。了解提高光刻机性能的关键技术以及了解下一代光刻技术的发展情况是十分重要的。

    2020-08-28 14:39