翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
对中兴禁运，那么，就拭目以待吧）。ＡＳＭＬ的主要股东是飞利浦，但三星，台积电和英特尔都占有股份。去年底，ASML的中国区销售总监对媒体说，ASML最先进的EUV
2018-06-13 14:40
带宽积）,指运算放大器（OP）在一定的频率范围内，其增益（dB）和频率之乘积不变，称为增益带宽积。单位为Hz。也用GBW表示。模电课学的是版本一，《OP放大器应用技巧100例》中是版本二；哪个是正确的？还是说这两种说
2017-12-07 23:15
台积电0.18工艺电源电压分别是多少？是1.8v跟3.3v吗？
2021-06-25 06:32
平行度 Parallelism的定义是什么？什么机台可以测试
2022-05-01 15:31
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
`谁了解这个加热器是哪款机台用的`
2017-04-13 00:56
流量积算器是与流量计配套使用，累计在一定时间间隔内流过管道的流体总量。积算器的具体计算如下：
2019-09-23 09:02
if appropriate support and assistance to lessexperienced ASML or local personnel as necessary. -Should
2015-08-24 15:46
本人某985电子学院研一学生，我们导师在我刚来的时候就把一个课题给我去做，前期的材料与薄膜学长学姐们已经完成了，让我解决后期的光刻与器件制备等问题。本来我觉得是一个很好的锻炼自己的机会，就直接答应了
2018-02-27 15:47
