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  • 193 nm ArF浸没式光刻技术和EUV光刻技术

    翁寿松(无锡市罗特电子有限公司,江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU:(1)美国俄勒冈州Fab PID厂,2007年下半年量产;(2)美国亚利桑那州Fab 32厂,投资30亿美元,2007年末量产;(3)以色列Fab 28厂,投资35亿美元,2008年上半年量产;(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂,投资10~15亿美元,从90 nm过渡至45 nm,它是英特尔产首座300 mm晶圆厂,也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上,英特尔将于2009年推出32nmMPU,2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存,3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。

    2019-07-01 07:22

  • 我所了解的中国电子元器件行业

    对中兴禁运,那么,就拭目以待吧)。ASML的主要股东是飞利浦,但三星,台积电和英特尔都占有股份。去年底,ASML中国区销售总监对媒体说,ASML最先进的EUV光刻机

    2018-06-13 14:40

  • ASEMI品牌的S1M是中高端的吗,如果是那它能出口到国外去吗?

    编辑:llASEMI品牌的S1M是中高端的吗,如果是那它能出口到国外去吗?

    2018-12-05 11:57

  • 求助论坛的半导体工艺大神们,一个电子系研究生求助

    本人某985电子学院研一学生,我们导师在我刚来的时候就把一个课题给我去做,前期的材料与薄膜学长学姐们已经完成了,让我解决后期的光刻与器件制备等问题。本来我觉得是一个很好的锻炼自己的机会,就直接答应

    2018-02-27 15:47

  • 太阳能电池薄膜激光刻配了台特域冷水,用的是什么制冷

    太阳能电池薄膜激光刻配了台特域冷水,用的是什么制冷

    2017-11-25 14:30

  • 无线蓝牙鼠标出口欧盟CE认证测试

    无线蓝牙鼠标体现移动办公便捷的特点,外形小巧,大小不到手掌的1/2,外出办公非常方便,鼠标有效可达到10米以上,比无线鼠标信号更好,更方便。   无线蓝牙鼠标的CE认证,是产品出口到欧盟46个国家

    2015-10-26 09:33

  • 光刻胶有什么分类?生产流程是什么?

    光刻胶也称为光致抗蚀剂,是一种光敏材料,它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后,受到光照的

    2019-11-07 09:00

  • 无法为cy8c4014lqi-422建立keil项目该怎么办?

    尊敬的先生/女士,我在PSoC创建者3.3中配置CY8C***Q-422项目,并成功地将该项目出口到Keil IDE。然而,我未能在基尔建造这个项目。KEIL的版本是MIDK-ARM标准5.17

    2019-10-12 08:14

  • 随着世界经济的逐步恢复,中国MCU市场正在持续增长

    受到全球经济形势和中国偏紧财政政策的影响, 从2011 年Q4到2012 年Q2中国MCU出货量出现下降。得益于中国***谨慎刺激政策和缓慢恢复的出口,整个销售状况在年

    2019-07-01 06:17

  • 喷胶有什么典型应用 ?

    喷胶是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶,最大涂胶尺寸达8寸,得到厚度均匀的光刻胶层,同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶;通过计算机系统控制器进行工艺参数的编辑和操作。

    2020-03-23 09:00