英国的研究人员成功地组建了一个能够从海水中去除盐类物质的石墨烯氧化物筛网。这项研究是由曼彻斯特大学的科学家们完成的，该项研究旨在帮助数以百万计的人们可以从海水中获得清洁的饮用水。
2017-04-06 10:36
用半导体制造中的清洗过程中使用的酸和碱溶液研究了硅片表面的颗粒去除。
2022-07-05 17:20
提供了一种在单个晶片清洁系统中去除后处理残留物的方法。该方法开始于向设置在衬底上方的邻近头提供第一加热流体。然后，在基板的表面和邻近头的相对表面之间产生第一流体的弯液面。基板在接近头下方线性移动。还提供了单晶片清洁系统。
2022-03-22 14:11
在半导体器件的制造过程中，兆声波已经被广泛用于从硅晶片上去除污染物颗粒。在这个过程中，平面硅片被浸入水基溶液中，并受到频率在600千赫-1兆赫范围内的声能束的作用。声波通常沿着平行于晶片/流体界面
2022-03-15 11:28
走线出现小方块的示意图如下所示： 这种情况出现并不影响pcb生产以及布线的联通性，只是影响美观性能，去除的方法比较简单，这个是由模块复用以后，没有打散模块引起的。将模块的打散即可。操作如下: 首先
2020-10-18 09:44
当推理引擎的性能出现时，供应商会抛出基准测试，引用TOPS（Tera-Operations/second）性能和TOPS/Watt等内容。研究这些数字的系统/芯片设计人员很快意识到这些数字通常毫无意义。真正重要的是推理引擎可以为模型、图像大小、批量大小和过程以及 PVT（过程/电压/温度）条件提供多少吞吐量。这是衡量其性能的第一标准，但令人惊讶的是，很少有供应商提供它。
2022-12-01 15:53
Python是一个强大的编程语言，提供了许多解决问题的方法和功能。其中一个常见的问题是如何去除列表中的重复数据。在本文中，我们将详细介绍Python中去除列表中重复数据的几种方法，包括使用循环
2023-11-21 15:49
准备好无缺陷掩模供应是将极端紫外线光刻(EUVL)应用于32纳米半间距(HP)及更大的大批量半导体制造的关键挑战之一。根据ITRS在2008年更新的数据，对于32纳米的惠普，需要去除的缺陷尺寸为25
2022-02-17 14:59
)开口的低k图案化中，观察到两个主要问题。首先，MHM开口后的干剥离等离子体对暴露的低k材料以及MHM下面的低k材料造成一些损伤。受损低k是非常易碎的材料，不应该被去除，否则将获得一些不良的轮廓结构。其次，连续的含氟低k蚀刻等离子体导致聚合物
2022-06-14 16:56
新房装修之后所产生的甲醛非常多，对人体的危害也非常巨大，面对新房装修所产生的甲醛我们应该怎么办？怎样去除新家装修甲醛异味呢？如何去除室内甲醛，有些朋友通过网络搜到活性炭吸附，是颇为流行的一个清除室内
2019-07-22 22:11
