随着集成电路工艺的不断发展，工艺模拟软件功能也在不断的改善，但不足之处也不断暴露出来，工艺模拟过程中没有考虑仪器本身影响。所以在
2009-08-14 13:59
随着集成电路工艺的不断发展，工艺模拟软件功能也在不断的改善，本文以氧化扩散工艺为例,并在计算机上采用SUPREM-III
2009-06-19 11:56
离子注入工艺资料~还不错哦~
2012-08-01 10:58
半导体工艺中应用的离子注入是将高能量的杂质离子导入到半导体晶体，以改变半导体，尤其是表面层的电学性质． 注入一般在50-500kev能量下
2011-05-22 12:37
离子注入是现代集成电路制造中的一种非常重要的技术,其利用离子注入机实现半导体的掺杂,即将特定的杂质原子（Dopant）以离子加速的方式
2011-05-22 12:34
离子注入的特点是加工温度低，易做浅结，大面积注入杂质仍能保证均匀，掺杂种类广泛，并且易于自动化。由于采用了离子注入技术，大大地推动了半导体器件和集成电路工业的发展
2011-05-22 12:56
离子注入是将高能离子注入半导体衬底的晶格中来改变衬底材料的电学性能的掺杂工艺。通过注入能量、角度和剂量即可控制掺杂浓度和深度，相较于传统的扩散
2024-02-21 10:23
近日有消息显示，万业企业（600641.SH）全资子公司凯世通的低能大束流集成电路离子注入机已搬进杭州湾洁净室，目前正在根据集成电路芯片客户工艺要求，
2019-12-31 10:04
离子注入是一种重要的半导体工艺，用于在材料中引入离子，改变其物理和化学性质。离子注入仿真是对离子的
2023-12-21 16:38
本文简单介绍了离子注入工艺中的重要参数和离子注入工艺的监控手段。 在硅晶圆制造过程中，离子的分布状况对器件性能起着决定性
2025-01-21 10:52
