电子发烧友网报道（文/ 周凯扬 ）到了3nm这个工艺节点之后，单靠现有的0.33NA EUV光刻机就很难维系下去了。 为了实现2nm乃至未来的埃米级工艺，将晶体管密度推向1000MTr/mm2，全面
2022-12-07 07:25
电子发烧友网报道（文/周凯扬）到了3nm这个工艺节点之后，单靠现有的0.33NA EUV光刻机就很难维系下去了。为了实现2nm乃至未来的埃米级工艺，将晶体管密度推向1000MTr/mm2，全面
2022-12-07 01:48
英特尔的研发团队正致力于对这台先进的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻机进行细致的校准工作，以确保其能够顺利融入未来的生产线。
2024-04-22 15:52
ASML公司近日宣布发货了第二台High NA EUV光刻机，并且已成功印刷出10纳米线宽图案，这一重大突破标志着半导体制造领域的技术革新向前迈进了一大步。
2024-04-29 10:44
在全球四大先进制程代工巨头（包括台积电、三星电子、英特尔以及Rapidus）中，只有英特尔明确表示将使用High NA EUV光刻机进行大规模生产。
2024-05-27 14:37
。在这场技术竞赛中，光刻机作为半导体制造的核心设备，其重要性不言而喻，而荷兰巨头阿斯麦（ASML）无疑是这一领域的领航者。
2024-07-03 14:46
ASML再度宣布新光刻机计划。据报道，ASML预计2030年推出的Hyper-NA极紫外光机（EUV），将缩小最高电晶体密度芯片的设计限制。 ASML前总裁Martin
2024-06-18 09:57
最近，据报道，台积电将于2024年收购下一代Asmail的最新极紫外光刻设备，为客户开发相关基础设施和架构解决方案。
2022-09-20 14:23
1. 三星将于2025 年初引进High NA EUV 光刻机，加快开发1nm 芯片 据报道，三星电子正准备在2025年初引入其首款High NA
2024-10-31 10:56
