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  • 超薄SIMOX材料的Pseudo-MOSFET电学表征

    100nm的超薄SIMOX材料,其顶层硅与BOX层界面有更多的缺陷,会影响到在顶层硅膜上制得的器件的性能,引起NMOSFET的阈值电压升高、载流子迁移率降低。Pseudo-MOSFET方法能够在晶圆水平上快捷

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    2012-12-10 21:37

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    2016-10-10 10:58