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    Cinterion WirelESs Modules公司是全球领先的蜂窝机器到机器(M2M)通信模块提供商。公司发布了新款UMTS900模块EU3。Cinterion EU3 UMTS无线模块为自动抄表(AMR)等一些工业应用的高难度长期需求提供了

    2011-10-18 10:31

  • 氢氟酸水溶液中离子辐照LiNbO3的蚀刻

    引言 用多能氩离子辐照x射线切割铌酸锂单晶,产生厚度为400纳米的均匀损伤表面层,研究其在HF水溶液中的腐蚀行为。使用不同的酸温度和浓度,表明可以通过将温度从24℃提高到55℃来提高蚀刻速率,同时保持该技术的高对比度。讨论了氟化氢在水溶液中的分解,并应用氟化氢蚀刻二氧化硅的反应动力学获得了蚀刻机理的信息。因此,分析了蚀刻速率的浓度依赖性,发现蚀刻过程可以描述为HF或HF 2的侵蚀,其由H+离子的存在催化支持。 我们将系统地研

    2021-12-23 16:36

  • 基于键合工艺制备LiNbO3和LiTiO3薄膜材料的研究进展

    AlN是最流行的用于制备滤波器件的压电薄膜材料,通常采用溅射方法制备。但是,溅射的AlN薄膜是特定取向的(多晶)材料,并且压电薄膜以及薄膜/衬底界面的质量难以控制,导致其机电耦合系数(K2)和Q较低,不能满足下一代高频带通滤波器高带宽(相对带宽>10%)、低插损(<3dB)的需求。

    2019-01-25 16:30

  • LiNbO3选择性刻蚀的研究

    引言 随着制造技术的不断进步,特别是基于纳米或微米结构的制造,已经研究出了具有强光学限制的各种制造工艺.两种最广泛使用的基于扩散的制造波导的方法已经在超导材料中得到了很好的确立,即钛热扩散和质子交换方法。本文结合理论模拟和实验,综合分析了所提出的旋转交换湿蚀刻法的蚀刻结果。发现质子交换层可以很容易地使用氢氟酸/硝酸混合酸蚀刻阻挡层,从而改善提取率和表面形貌。最佳波导的最低粗糙度被测量为0.81毫米,这有利于基

    2021-12-24 16:24

  • LiNbO3刻蚀速率与晶体取向的关系

    引言 铌酸锂是一种广泛应用于光学和声表面波器件的铁电材料。铌酸锂通常不用于微机电系统(MEMS)应用,部分原因是铌酸锂的体微加工不如与其他材料的加工那样好理解。已经公布了硅和石英对晶体取向的完全蚀刻率依赖性的数据,这允许模拟这些晶体的蚀刻。锗的类似数据也已发表。利用蚀刻模拟器,设计具有复杂结构的器件是可能的。我们做了铌酸锂腐蚀速率随晶体取向变化的实验。蚀刻表征是制造新传感器、致动器或其他新器件所需的基本技术。

    2021-12-24 15:43

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    2008-09-06 16:13

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    2008-10-10 11:50

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    2020-03-17 14:21

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