EUV 光刻是以波长为 10-14nm 的极紫外光作为光源的芯片光刻技术，简单来说，就是以
2022-10-10 11:15
随机变化需要新方法、新工具，以及不同公司之间的合作。 极紫外（EUV）光刻技术正在接近生产，但是随机性变化又称为随机效应正在重新浮出水面，并为这项期待已久的技术带来了更
2018-03-31 11:52
随着半导体行业持续突破设计尺寸不断缩小的极限，极紫外 （EUV） 光刻技术的运用逐渐扩展到大规模生产环境中。对于 7 纳米及更小的高级节点，
2019-07-03 15:32
随着极紫外光刻（EUV）技术面临光源功率和掩模缺陷挑战，X射线光刻技术凭借其固有优势，在特定领域正形成差异化竞争格局。
2025-05-09 10:08
。照明系统是光刻机的重要组成部分，其主要作用是提供高均匀性照明、控制曝光剂量和实现离轴照明，以提高光刻分辨率和增大焦深。论文以深紫外光刻照明系统光学设计为研究方向，对照明系统关键单元进行了光学设计与仿真研究。
2023-07-17 11:02
中，但是极紫外光刻技术却一直是近些年来的研究热点，所有厂商对这项技术也都充满了期盼，希望这项技术能有更大的进步，能够早日投入大规模使用。 各家厂商都清楚，半导体工艺向往下刻，使用EUV技术是必须
2018-06-27 15:43
本文简单介绍了极紫外光（EUV）掩膜版的相关知识，包括其构造与作用、清洗中的挑战以及相关解决方案。
2024-12-27 09:26
紫外光通信系统是一种新型的通信手段，与常规的通信系统相比，有很多优势。由于紫外线主要以散射方式传播，并且传播路径有限，采用紫外光通信系统具有一定的绕过障碍物的能力，非常适用于近距离抗干扰的通信环境。
2018-07-17 15:34
在面对紫外光子成像技术时，面临着诸多挑战。光子密度大、需要高频触发采集，以及实时计算光子位置进行谱图绘制，这些都对采集设备的性能提出了极高的要求。
2024-03-20 09:56
光刻胶是用来制作图案的光敏聚合物，它是造成随机性效应的罪魁祸首之一。根据定义，随机效应描述了具有光量子随机变化的事件。它们是不可预测的，没有稳定的模式。
2018-03-27 08:09
