极紫外 (EUV) 光刻系统是当今使用的最先进的光刻系统。本文将介绍这项重要但复杂的技术。
2023-06-06 11:23
EUV光刻技术仍被认为是实现半导体行业持续创新的关键途径。随着技术的不断发展和成熟，预计EUV光刻将在未来继续推动芯片制程的进步。
2023-05-18 15:49
EUV光刻有多强？目前来看，没有EUV光刻，业界就无法制造7nm制程以下的芯片。EUV
2025-02-18 09:31
11月25日，市场研究公司总裁罗伯特·卡斯特拉诺（Robert Castellano）表示：“过去三年来，应用材料一直在晶圆制造前段工序（WFE）的设备市场上失去市场份额，而 ASML却将凭借其价格高昂的EUV光刻设备大批出货实现超越，取代应用材料成为最大的半导体
2019-11-26 15:06
大多数人没有意识到芯片制造是国家经济的核心。通过阅读您的书，EUV 的开发过程始于美国的英特尔，然后完全脱离了英特尔。一家荷兰公司如何拥有这项关键的芯片制造技术？
2023-02-15 10:34
与此同时，在ASML看来，下一代高NA EUV光刻机为光刻胶再度带来了挑战，更少的随机效应、更高的分辨率和更薄的厚度。首先传统的正胶和负胶肯定是没法用了，DUV光刻机上
2022-07-22 10:40
号为 CN202110524685.X。这能解决相干光因形成固定的干涉图样而无法匀光的问题，这个也是 EUV 光刻常见问题。 从介绍中可以看出，该专利提供了一种光刻装置，通过不断改变相干光形成的干涉图样，使得照明视场
2022-11-21 15:10
EUV光刻技术为半导体制造商提供一个前所未有的速度开发最强大芯片的机会。
2022-04-07 14:49
随着三星宣布7nm EUV工艺的量产，2018年EUV光刻工艺终于商业化了，这是EUV工艺研发三十年来的一个里程碑。不过EUV
2018-10-30 16:28
晶圆厂通常使用光刻胶来图案化抗蚀刻硬掩模，然后依靠硬掩模来保护晶圆。但是，如果光刻胶太薄，它可能会在第一个转移步骤完成之前被侵蚀掉。随着光刻胶厚度的减小，底层厚度也应该减小。
2023-04-27 16:25
