在衬底上形成薄膜, 实现辅助镀膜 IBAD. KRi 离子源 e-beam 电子束蒸发系统加装 KRi 离子源作用通过向生长的薄膜中添加能量来增
2023-05-25 10:22 伯东企业（上海）有限公司 企业号
上海伯东美国 KRi 考夫曼品牌 RF 射频离子源, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的宽束离子束, 离子束轰击溅射目标, 溅射的原子(分子)沉积在衬底上形成薄膜, IBSD 离子束溅射沉积
2023-05-25 10:18 伯东企业（上海）有限公司 企业号
工序以及自动 PnP 设备实现自动化拾取.OSA 内部流转工序要求需要提供足够的粘度, 在运输和检测过程中牢牢固定住 OSA 组件.芯片盒必须防静电需要在盒子上印刷生
2023-12-01 14:38 伯东企业（上海）有限公司 企业号
上海伯东美国 KRi 霍尔离子源辅助镀膜 IBAD 应用上海伯东美国 KRi 霍尔离子源 EH 系列, 提供高电流低能量宽束型离子束, KRi 霍尔离子源可以以纳米精度来处理薄膜及表面, 多种
2023-05-11 13:26 伯东企业（上海）有限公司 企业号
及细胞培养、分选和裂解等基本操作单元集成到几个平方厘米 (甚至更小) 的芯片上，由微通道形成网络，由可控流体贯穿整个系统。目前的微流控芯片系统主要包括连续微流体系统和
2022-11-17 15:13 Aigtek安泰电子 企业号
