光刻机是制作芯片的关键设备，利用光刻机发出的紫外光源通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的硅片曝光，使光刻胶性质变化、达到图形
2022-06-30 09:46
，所以光刻机就选择了改变光源，用13.5nm波长的EUV取代193nm的DUV光源，这样也能大幅提升光刻机的分辨率。 在上世纪
2020-07-07 14:22
光刻机是芯片制造的核心设备之一，作为目前世界上最复杂的精密设备之一，其实光刻机除了能用于生产芯片之外，还有用于封装的
2020-03-18 11:12
可以生产出纳米尺寸更小、功能更强大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻机
2022-07-10 14:35
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作工艺有着决定性的影响，被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”，根据之前中芯国际的
2021-07-29 09:36
众所周知全球最大的两个芯片代工厂是三星和台积电，虽说台积电和三星如果断供，像华为麒麟高端芯片可能就会瘫痪，但三星和台积电也没有自己的光刻机，只能跟荷兰ASML公司购买。
2020-04-13 17:22
，中国最好的光刻机厂商上海微电子装备有限公司（SMEE）已经量产的光刻机中，性能最好的SSA600/20工艺只能达到90nm，相当于2004年上市的奔腾四CPU的水准。而国外的先进水平已经达到了7纳米，正因如此，国内
2020-03-18 10:52
[td]如题，求smic 90nm 的PDK，用于本科毕设学习，邮箱zbdzjm@163.本来想设定10000，谁知道悬赏价格论坛限定在2000了，咋破？
2021-06-21 07:21
全新的开源SDK，SKY90-FD，对应SkyWater的90nm FDSOI CMOS工艺。这对于开源芯片设计来说可是个大新闻，要知道
2022-08-04 08:34
的要求则反过来，我们要确保影像要绝对清晰，就要将对焦点落在光阻上，并且确保光阻绝对不可落到景深范围之外。那ASML的光刻机景深有多大呢？ 所以我们就是要把光阻移到这个100nm的范围之内，是不是有点
2020-09-02 17:38
