光刻机是制作芯片的关键设备，利用光刻机发出的紫外光源通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的硅片曝光，使光刻胶性质变化、达到图形刻印在硅片上形成电子线路图。我国目前还是采用什深
2022-06-30 09:46
，所以光刻机就选择了改变光源，用13.5nm波长的EUV取代193nm的DUV光源，这样也能大幅提升光刻机的分辨率。 在上世纪
2020-07-07 14:22
众所周知全球最大的两个芯片代工厂是三星和台积电，虽说台积电和三星如果断供，像华为麒麟高端芯片可能就会瘫痪，但三星和台积电也没有自己的光刻机，只能跟荷兰ASML公司购买。
2020-04-13 17:22
光刻机是芯片制造最为重要的设备之一。目前，ASML垄断了全世界的高端光刻机。中国一直以来都想掌握光刻机技术，但是上海微电子经过17年的努力，才造出
2020-01-29 11:07
的要求则反过来，我们要确保影像要绝对清晰，就要将对焦点落在光阻上，并且确保光阻绝对不可落到景深范围之外。那ASML的光刻机景深有多大呢？ 所以我们就是要把光阻移到这个100nm的范围之内，是不是有点
2020-09-02 17:38
中芯国际接连取得突破，打破西方光刻机封锁，胜利女神在招手！在我国半导体行业内，一直存在着一个重大问题，那就是我国国产光刻机的精度仅为90nm，那么90nm精度的
2020-04-10 17:52
，中国最好的光刻机厂商上海微电子装备有限公司（SMEE）已经量产的光刻机中，性能最好的SSA600/20工艺只能达到90nm，相当于2004年上市的奔腾四CPU的水准。而国外的先进水平已经达到了7纳米，正因如此，国内
2020-03-18 10:52
目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术，
2022-07-10 14:53
我国的光刻机目前能做的只有90nm制程，而荷兰的ASML 最新EUV工艺光刻机可以做到7nm制程、6nm制程、5
2020-03-19 16:46
5nm光刻技术与ASML光刻机有何区别？ EUV光刻机产能如何？ 大飞_6g（听友） 请问谢博士，EUV
2021-03-14 09:46
