，所以光刻机就选择了改变光源，用13.5nm波长的EUV取代193nm的DUV光源，这样也能大幅提升光刻机的分辨率。 在上世纪
2020-07-07 14:22
的要求则反过来，我们要确保影像要绝对清晰，就要将对焦点落在光阻上，并且确保光阻绝对不可落到景深范围之外。那ASML的光刻机景深有多大呢？ 所以我们就是要把光阻移到这个100nm的范围之内，是不是有点
2020-09-02 17:38
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作工艺有着决定性的影响，被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”，根据之前中芯国际的公报，目...
2021-07-29 09:36
[td]如题，求smic 90nm 的PDK，用于本科毕设学习，邮箱zbdzjm@163.本来想设定10000，谁知道悬赏价格论坛限定在2000了，咋破？
2021-06-21 07:21
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2022-03-04 07:20
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2021-05-13 06:18
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2021-12-28 06:28
RK3399开发板怎么样？好不好？
2022-03-04 06:22
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2023-10-18 08:26
