适用了20余年的摩尔定律近年逐渐有了失灵的迹象。从芯片的制造来看，7nm就是硅材料芯片的物理极限。不过据外媒报道，劳伦斯伯克利国家实验室的一个团队打破了物理极限，采用碳
2021-07-28 07:55
从7nm到5nm，半导体制程芯片的制造工艺常常用XXnm来表示，比如Intel最新的六代酷睿系列CPU就采用Intel自家的14
2021-07-29 07:19
和物理表示，不仅降低了具有挑战性的7nm设计功耗，也提升了性能。新思科技芯片设计事业部联席总经理Sassine Ghazi表示：“用户正在快速部署Fusion Design Platform，这让我们
2020-10-22 09:40
总工艺时长的40%至60%，成本也占整个芯片制造成本的35%。有机光刻胶主要用于90nm到7nm的芯片
2020-03-09 10:13
芯片良率。 据悉，其 5nm 已于2019年三月进入试产阶段，预计将于2020年开始量产。同时，我们也知道，台积电的多条产业已处于满载状态，订单供不应求，为了确保接下来7nm、5
2020-02-27 10:42
什么是可制造性设计？Design for manufacturability，即从从设计开始考虑产品的可制造性，提高产品的直通率及可靠性，使得产品更易于制造的同时降低制造成
2022-08-25 18:03
設備的制造成本往往高達數千萬美元。如此巨大的投資要求顯著阻礙了在MEMS方面對于潛在有用設備的開發。 但是不久前MIT微系統技術實驗室的研究人員連續發表的兩篇論文表明，這些財務上的障礙有可能很快會被
2015-12-24 16:27
芯片和cpu制造流程芯片芯片属于半导体，半导体是介于导体和绝缘体之间的一类物质。元素周期表中的硅、锗、硒的单质都属于半导体。除了这些单质，通过掺杂生成的一些化合物，也属
2021-07-29 08:32
，购买或者开发EUV光刻机是否必要？中国应如何切实推进半导体设备产业的发展？EUV面向7nm和5nm节点所谓极紫外光刻，是一种应用于现代集成电路制造的光刻技术，它采用波长为10～14纳米的极紫外光作为
2017-11-14 16:24
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作工艺有着决定性的影响，被誉为“
2021-07-29 09:36
