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  • 光刻机工艺的原理及设备

    ,光源是ArF(氟化氩)准分子激光器,从45nm到10/7nm工艺都可以使用这种光刻机,但是到了7nm这个节点已经的DUV光刻

    2020-07-07 14:22

  • 魂迁光刻,梦绕芯片,中芯国际终获ASML大型光刻机 精选资料分享

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    2021-07-29 09:36

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    2020-03-09 10:13

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    2023-03-13 09:52

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    2020-10-22 09:40

  • 国内单片机不断实现突破,国内单片机的发展现状

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    2018-09-03 16:48

  • 7nm到5nm,半导体制程 精选资料分享

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    2021-07-29 07:19

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    2019-12-10 14:38

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    2024-03-16 14:52