，光源是ArF（氟化氩）准分子激光器，从45nm到10/7nm工艺都可以使用这种光刻机，但是到了7nm这个节点已经的DUV光刻
2020-07-07 14:22
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作工艺有着决定性的影响，被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”，根据之前中芯国际的公报，目...
2021-07-29 09:36
高技术装备的使用，光刻机就是发展国产芯片的核心技术装备，国内有家公司将使用最先进的光刻机装备，钻研7nm制程的芯片制造。。 有些朋友会诧异，咱们国产芯片怎样会进展到
2018-10-05 08:16
据国外媒体报道，在芯片的制造过程中，光刻机是必不可少的设备，在芯片工艺提升到7nm EUV、5nm之后，极紫外光刻机也就至关重要。
2020-03-07 14:39
的要求则反过来，我们要确保影像要绝对清晰，就要将对焦点落在光阻上，并且确保光阻绝对不可落到景深范围之外。那ASML的光刻机景深有多大呢？ 所以我们就是要把光阻移到这个100nm的范围之内，是不是有点
2020-09-02 17:38
作为近乎垄断的光刻机巨头，ASML的EUV光刻机已经在全球顶尖的晶圆厂中获得了使用。无论是英特尔、台积电还是三星，EUV光刻机的购置已经是生产支出中很大的一笔，也成了7nm
2021-12-01 10:07
7nm之下不可或缺的制造设备，我国因为贸易条约被迟迟卡住不放行的也是一台EUV光刻机。 但EUV光刻机的面世靠的不仅仅是ASML一家的努力，还有蔡司和TRUMPF（通快）两家欧洲光学巨头的合作才得以成功。他们的技术分
2021-12-07 14:01
光刻机和euv光刻机区别是是什么呢？ duv光刻机和euv光刻机区别 1.基本上duv只能做到25nm，而euv能够做到
2022-07-10 14:53
中芯国际的芯片工艺目前已发展至14nm，若想将芯片工艺进一步提升至7nm乃至3nm等先进制程，EUV光刻机设备就必不可少。那么，中芯国际此次12亿美元的采购协议都有哪些
2021-03-10 14:36
1、IBM的2nm芯片，所有关键功能都是使用EUV光刻机进行刻蚀。而7nm芯片只有在芯片生产的中间和后端环节使用EUV光刻机，意味着2
2022-07-05 17:26
