EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作工艺有着决定性的影响，被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”，根据之前中芯国际的公报，目...
2021-07-29 09:36
和荷兰学习交流，学他的技术，当然要付出代价，比如财富和他想要的东西，真诚相待，会成功的，还可以引进的的人才和技术，在和他学艺，联姻，总之就是把技术学到手。
2022-11-20 08:48
晶片边缘的蚀刻机台，特别是能有效地蚀刻去除晶片边缘剑山的一种蚀刻机，在动态随机存取存储单元(dynamic random access memory，DRAM)的制
2018-03-16 11:53
湿蚀刻是光刻之后的微细加工过程，该过程中使用化学物质去除晶圆层。晶圆，也称为基板，通常是平面表面，其中添加了薄薄的材料层，以用作电子和微流体设备的基础；最常见的晶圆是由硅或玻璃制成的。湿法刻蚀
2021-01-08 10:15
一、光刻胶的选择光刻胶包括两种基本的类型：正性光刻和负性光刻，区别如下
2021-01-12 10:17
和 6 英寸晶片具有 100 纳米 LPCVD 氮化物层掩蔽材料。晶片在一侧用光刻法进行图案化，然后在工艺流程中通过干法蚀刻氮化物和/或热氧化物层以给出所需的图案略III. 电阻结果与讨论 略IV.
2021-07-19 11:03
1. FPGA与单片机的区别？单片机和FPGA的区别，本质是软件和硬件的区别。单片机设计属软件范畴；它的硬件（单片机芯片
2021-07-13 09:49
1、产品：LDI数字光刻机，10微米—50微米线宽线路最优选择，适用于内外层制程2、支持电路板尺寸：200*200—630*810（微米）3、支持电路板厚度：0.03—5（微米）4、最高产能可达
2021-05-19 16:09
目录杂项单片机和ARM区别1.软件方面硬件层面第二章STC15F2K60S2单片机增强型内核2.1 单片机概述2.2 内部资源你概述与引脚功能2.2.1 资源与功能概述
2021-07-21 08:12
单片机驱动与Linux驱动的区别1. MCU与MPU的区别2. 单片机驱动与Linux驱动的区别1. MCU与MPU的
2021-07-16 06:27
