光刻机用纳米位移系统设计
2025-02-06 09:38
大家都知道，芯片制造的核心设备之一就是光刻机了。现在，全球最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机，那么euv光刻机目前几纳米
2022-07-10 11:17
，但是由于面板光刻机针对的是薄膜晶体管，芯片光刻机针对的是晶圆，面板光刻机精度要求远低于芯片光刻机，只要达到pm级别即可
2025-01-16 09:29
最近光刻机十分火，我们经常听到别人说7纳米光刻机、5纳米光刻机，但其实严
2020-10-19 11:42
随着芯片制程工艺的更新迭代，芯片已进入纳米时代，指甲盖大小的芯片上集成的晶体管数量高达百亿。然而芯片制造最大的困难是光刻机。
2022-07-05 10:57
众所周知，光刻机一直处于垄断地位，在光刻机领域，最有名的就是ASML公司了。
2022-07-04 11:21
目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术，EUV使用的是深紫外
2022-07-10 14:53
顶级光刻机有多难搞？ASML的光刻机，光一个零件他就调整了10年！拿荷兰最新极紫外光EUV光刻机举例，其内部精密零件多达10万个，比汽车零件精细数十倍！
2020-07-02 09:38
不会有我们现在的手机、电脑了。 光刻机是用于芯片制造的核心设备，按照用途可以分为用于生产芯片的光刻机、用于封装的光刻机和用于LED制造领域的投影光刻机。
2021-07-07 14:31
我们经常看到报道上说芯片制程达到了14nm、7nm、5nm，最近中芯国际在没有ASML的EUV光刻机的情况下，实现了7nm的制程，有很多人对此感到很兴奋。
2020-04-19 11:40
