芯片制造流程其实是多道工序将各种特性的材料打磨成形，经循环往复百次后，在晶圆上“刻”出各种电子特性的区域，最后形成数十亿个晶体管并被组合成电子元件。那光刻，整个流程中的一个重要步骤，其实并没有
2020-09-02 17:38
来源：wikichip） 尽管EUV光刻机相当之贵，接近1.2亿美元一台，但半导体厂商还是愿意去投入，因为7nm以及以上的工艺的确需要EUV光刻机，几时同样的7nm工
2020-07-07 14:22
，光刻和刻蚀是其中最为核心的两个步骤。 而晶体管就是通过光刻和蚀刻雕刻出来的，光刻就是把芯片制作所需要的线路与功能区做出来。利用
2020-07-07 11:36
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作工艺有着决定性的影响，被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”，根据之前中芯国际的公报，目...
2021-07-29 09:36
IC芯片制程，就是晶体管中栅极的最小宽度，即栅长的数值，也就是我们经常看到的XX nm单片机IC芯片除了要达到芯片设计的要求外，单片机IC芯片的制造不断追求更小化，以达到降低能耗、提高性能的目的。而芯片
2018-08-23 17:34
如果国家以两弹一星的精神投入光刻机的研发制造，结果会怎样？
2020-06-10 19:23
按工作电压的极性可分为NPN型或PNP型。》 双极结型晶体管“双极”意味着电子和空穴在工作的同时都在运动。双极结型晶体管，又称半导体三极管，是通过一定工艺将两个PN结组合在一起的器件。PNP和NPN
2023-02-03 09:36
电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极 随着科技进步，对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关，电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长，而电子束聚焦后
2025-05-07 06:03
先进的晶体管架构，是纳米片晶体管（Nanosheet FET）的延伸和发展，主要用于实现更小的晶体管尺寸和更高的集成密度，以满足未来半导体工艺中对微缩的需求。叉片
2025-06-20 10:40
100V到700V，应有尽有．几年前，晶体管的开关能力还小于10kW。目前，它已能控制高达数百千瓦的功率。这主要归功于物理学家、技术人员和电路设计人员的共同努力，改进了功率晶体管的性能。如(1)开关
2018-10-25 16:01
