，它们与光刻机被称为半导体制造三大关键设备，而中微的5nm等离子蚀刻机已经具备了国际竞争力。等离子刻蚀机是芯片制造中的关键设备，用来在芯片上进行微观雕刻，每个线条和深孔的加工精度都是头发丝直径的几千分之
2020-03-09 10:13
从7nm到5nm，半导体制程芯片的制造工艺常常用XXnm来表示，比如Intel最新的六代酷睿系列CPU就采用Intel自家的14
2021-07-29 07:19
台积电宣布5nm基本完工开始试产：面积缩小45%、性能提升15%.pdf(105.52 KB)
2019-04-24 06:00
下一代SONET/SDH设备
2019-09-05 07:05
单片光学 - 实现下一代设计
2019-09-20 10:40
：https://bbs.elecfans.com/jishu_1102572_1_1.html很多小伙伴由于各种原因，未能看到直播现场内容，先发布一节视频。NI公司将发布基于新软件下一代LabVIEW，目前
2016-12-25 19:53
测试下一代核心路由器性能
2019-09-19 07:05
下一代测试系统：用LXI拓展视野
2019-09-26 14:24
下一代测试系统：用LXI推进愿景（AN 1465-16）
2019-10-09 09:47
TEK049 ASIC为下一代示波器提供动力
2018-11-01 16:28
