把被摄物体的影像复制到底片上。 而ASML光刻机在做的光刻，我们称之为微影制程，原理是将高能雷射光穿过光罩（reticle），将
2020-09-02 17:38
实际过程肯定没这么简单，上图是ASML典型的沉浸式步进扫描光刻机为例来看下光刻机是怎么工作的——首先是激光器发光，经过矫正、能量控制器、光束成型装置等之后进入光掩膜台，上面放的就设计公司做好的
2020-07-07 14:22
据羊城晚报报道，近日中芯国际从荷兰进口的一台大型光刻机，顺利通过深圳出口加工区场站两道闸口进入厂区，中芯国际发表公告称该光刻机并非此前盛传的EUV光刻机，主要用于企业复工复产后的生产线扩容。我们知道
2021-07-29 09:36
电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极 随着科技进步，对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关，电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长，而电子束聚焦后
2025-05-07 06:03
如果国家以两弹一星的精神投入光刻机的研发制造，结果会怎样？
2020-06-10 19:23
是分步投影光刻机.利用分步投影光刻机,再结合移相掩膜等技术,已经得到了最小线宽0.10微米的图形。 ◆接近式暴光与接触式暴光相似,只是在暴光时硅片和掩膜版之间保留有很小的间隙,这个间隙一般在10~25
2012-01-12 10:56
制造过程中，步骤会因为不同的材料和工艺而有所差异，不过大体上皆采用这样的类似工艺过程，于是就需要用到光刻机和刻蚀机。首先，在晶圆表面沉积一层薄膜，紧接着再涂敷上光刻胶（光
2018-08-23 17:34
上。 刻蚀只去除曝光图形上的材料。 在芯片工艺中，图形化和刻蚀过程会重复进行多次。2017年3月11日，据CCTV2财经频道节目的报道，中微AMEC正在研制目前世界最先进的5纳米等离子刻蚀机，将于2017年底将量产。
2017-10-09 19:41
、纳米薄膜等方面相关业务。1、激光直写(最小精度:0.6μm) 适用范围从干版，铬版到无掩模光刻；2、光刻复制及微纳结构刻蚀传递；3、纳米结构薄膜；4、图案微结构设计制
2017-05-09 10:54
2020年全球十大突破技术，2018-12-28 08:11:39盘点这一年的核心技术：22纳米光刻机、450公斤人造蓝宝石、0.12毫米玻璃、大型航天器回收、盾构机“弃壳返回”、远距离虹膜识别
2021-07-28 09:17
