,光源是ArF(氟化氩)准分子激光器,从45nm到10/7nm工艺都可以使用这种光刻机,但是到了7nm这个节点已经的DUV光刻
2020-07-07 14:22
的要求则反过来,我们要确保影像要绝对清晰,就要将对焦点落在光阻上,并且确保光阻绝对不可落到景深范围之外。那ASML的光刻机景深有多大呢? 所以我们就是要把光阻移到这个100nm的范围之内,是不是有点
2020-09-02 17:38
光刻机和euv光刻机区别是是什么呢? duv光刻机和euv光刻机区别 1.基本上duv只能做到25nm,而euv能够做到
2022-07-10 14:53
45nm Penryn处理器新技术与规格 ● 新的工藝起點—45nm處理器登場
2010-02-04 08:56
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造,光刻机作为集成电路制造中最关键的设备,对芯片制作工艺有着决定性的影响,被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”,根据之前中芯国际的公报,目...
2021-07-29 09:36
本文主要介绍光刻机的分类与原理。 光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类,光刻设备有前道和后道之分。前道光刻
2025-01-16 09:29
光刻机是制作芯片并不可少的重要工具,大家都知道,光刻机技术几乎被荷兰ASML所垄断,那么全球最先进的光刻机是多少nm的?中国现在又能够做出几
2022-07-06 10:07
5nm光刻技术与ASML光刻机有何区别? EUV光刻机产能如何? 大飞_6g(听友) 请问谢博士,EUV光刻机的产能是怎
2021-03-14 09:46
euv光刻机原理是什么 芯片生产的工具就是紫外光刻机,是大规模集成电路生产的核心设备,对芯片技术有着决定性的影响。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻机生产。那么euv
2022-07-10 15:28
跳过65nm,无晶圆厂商ASIC直接采用45nm工艺 在向几大前沿技术的转移策略中,eASIC公司选择跳过65nm节点,直接推出“零掩模费用”的45nm ASIC产品
2008-10-09 07:59