EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作工艺有着决定性的影响，被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”，根据之前中芯国际的公报，目...
2021-07-29 09:36
要。Altera Cyclone V FPGA通过多种方法帮助设计人员降低系统总成本，设计人员受益的不仅是TSMC的28nm低功耗（28LP）制造工艺，还包括Cyclone V器件系列内置的体系结构，以及
2015-02-09 15:02
和荷兰学习交流，学他的技术，当然要付出代价，比如财富和他想要的东西，真诚相待，会成功的，还可以引进的的人才和技术，在和他学艺，联姻，总之就是把技术学到手。
2022-11-20 08:48
半导体光刻蚀工艺
2021-02-05 09:41
45-50台的交付量。这其中很大一部分都供给了台积电，用于扩充5nm，以及7nm产能。中微半导体除光刻机之外，蚀刻机也是5nm
2020-03-09 10:13
一、光刻胶的选择光刻胶包括两种基本的类型：正性光刻和负性光刻，区别如下
2021-01-12 10:17
1、STM32F767的ADC最大工作频率是36Mhz，而 ADC 时钟（ADCCLK）来自 APB2，APB2 频率一般是 108Mhz，我们设置 ADCPRE=01，即4 分频，这样得到
2021-08-04 07:42
Platform重新定义了传统的设计工具界限，将最佳逻辑综合和布局布线、行业金牌signoff与新一代可测性设计技术进行整合，提供最可预测的7nm全流程收敛方案，最大程度上减少了迭代次数。新思科
2020-10-22 09:40
中国科学院大学（以下简称国科大）微电子学院是国家首批支持建设的示范性微电子学院，国科大微电子学院开设的《集成电路先进光刻技术与版图设计优化》课程是国内少有的研究讨论光刻技术的研究生课程，而开设课程
2021-10-14 09:58
子报》记者解释：“光刻是芯片制造技术的主要环节之一。目前主流的芯片制造是基于193nm光刻机进行的。然而193nm浸没光刻
2017-11-14 16:24
