目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线。
2022-07-10 14:53
光刻机用纳米位移系统设计
2025-02-06 09:38
大家都知道，芯片制造的核心设备之一就是光刻机了。现在，全球最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机，那么euv光刻机目前几纳米
2022-07-10 11:17
芯国际已投产14nmFinFET工艺，上海华虹已投产28nm工艺，ASML此时表示可以向中国大量出售DUV光刻机，这有助于中国的芯片制造厂迅速扩张产能。 中国是全球最大制造国，除了对先进工艺有需求之外，确实也对较为落
2020-11-09 11:40
DUV已经能满足绝大多数需求：覆盖7nm及以上制程需求。DUV和EUV最大的区别在光源方案。duv的光源为准分子激光，光源的波长能达到193纳米。
2022-07-06 15:56
最近光刻机十分火，我们经常听到别人说7纳米光刻机、5纳米光刻机，但其实严格意义上来说并不存在7
2020-10-19 11:42
日前晚间，据彭博社爆料称，美国正在对荷兰政府施压，要求其光刻机企业ASML禁止向中国大陆出售包括DUV光刻机在内的重要技术型产品。 在此之前，光刻机巨头ASML已经迫于
2022-07-06 18:00
众所周知，光刻机一直处于垄断地位，在光刻机领域，最有名的就是ASML公司了。
2022-07-04 11:21
本文主要介绍光刻机的分类与原理。 光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类，光刻设备有前道和后道之分。前道光刻
2025-01-16 09:29
纳米级别的分辨率。本文将详细介绍光刻机的主要组成部分及其功能。 光源系统 光源系统是光刻机的心脏，负责提供曝光所需的能量。早期的光刻机使用汞灯作为光源，但随着技术的
2025-01-07 10:02
