从2009年开始算起，中国研究团队一路攻坚克难，国产首套90纳米高端光刻机已于近期第一次成功曝光。2022年左右有望完成验收。这意味着，中国半导体材料和设备（工艺技术）产业又向前跨出了关键一大步
2018-04-10 10:57
我国成功研制出世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备 可加工22纳米芯片 大家可自行参考11月29日电国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻
2018-12-01 09:29
光刻机是芯片制造最为重要的设备之一。目前，ASML垄断了全世界的高端光刻机。中国一直以来都想掌握光刻机技术，但是上海微电子经过17年的努力，才造出90nm的
2020-01-29 11:07
电子束光刻技术使得对构成多种纳米技术基础的纳米结构特征实现精细控制成为可能。纳米结构制造与测量的研究人员致力于提升纳米尺
2024-10-18 15:23
本文以光刻机为中心，主要介绍了光刻机的分类、光刻机的结构组成、光刻机的性能指标、光刻机的工艺流程及工作原理。
2017-12-19 13:33
光刻机是芯片制造中光刻环节的核心设备， 技术含量、价值含量极高。 光刻机涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进技术，是所有半导体制造
2018-04-10 10:19
著名的美国半导体企业格罗方德半导体股份有限公司Global Foundries宣布，将放弃未来7纳米技术的研发，这意味着未来参与 7 纳米战局的
2018-10-28 09:38
从28纳米到3D堆叠，FPGA身价突然翻涨，不再是过去那个扮演配角的被支配角色，反而由于其功能大跃进、重要性大增，目前在许多应用中，已经逐渐成为支配系统运作的主角。而现阶段FPGA的三大发展方向：28
2019-02-21 15:02
作为光刻工艺中最重要设备之一，光刻机一次次革命性的突破，使大模集成电路制造技术飞速向前发展。了解提高光刻机性能的关键技术以及了解下一代光刻技术的发展情况是十分重要的。
2020-08-28 14:39
据悉，下一代EUV光刻机必须要升级下一代的高NA(数值孔径)标准，从现在的0.33 NA提升到0.55 NA，更高的NA意味着更分辨率更高，是3nm之后的工艺必备的条件。
2022-11-30 09:52
