上海伯东客户日本某生产半导体用光刻机公司, 光刻机真空度需要达到 1x10-11 pa 的超高真空, 因为设备整体较大, 需要对构成光刻机的真空相关部件进行检漏且要求清
2022-08-04 17:18 伯东企业（上海）有限公司 企业号
半导体设备光刻机防震基座在 LCD 面板制造曝光机中的成功应用案例-江苏泊苏系统集成有限公司一、案例背景在 LCD（Liquid Crystal Display）面板制造领域，曝光机
2024-12-24 14:43 江苏泊苏系统集成有限公司 企业号
泊苏 Type C 系列防震基座在半导体光刻加工电子束光刻设备的应用案例-江苏泊苏系统集成有限公司一、企业背景与光刻加工电子束光刻设备挑战某大型半导体制造企
2025-01-07 15:13 江苏泊苏系统集成有限公司 企业号
支持一体化实验室建设：5nm集成电路“虚实联动”线下实验室建设。支持科研课题与文章发表支持教育部A类学科竞赛产业场景：自动化建造系统、EUA光刻机、商用仿真器14纳米级别……一、人工智能与集成电路
2024-01-03 11:12 北京革新创展科技有限公司 企业号
在提高. 需要实现 IPX 2-8 的防水等级！上海伯东代理 Europlasma 超薄等离子体表面处理设备提供专利 Nanofics@ 110/120, Nan
2022-08-09 17:08 伯东企业（上海）有限公司 企业号
纳米材料/纳米电子器件电学测试面临的挑战1、纳米级尺寸性能不同于宏尺寸材料与器件状态变化快，对测试仪器响应速度有要求2、测试信号微弱多在样品研发阶段单位面积产生的电压/电流的微弱信号电流
2024-09-12 15:05 武汉普赛斯仪表有限公司 企业号
上海伯东日本 Atonarp Aston Impact 高灵敏度质谱分析仪, 基于四级杆的质量分离, Aston 质谱分析仪设计紧凑, 适用于气体分析和过程气体监测, 满足半导体工艺过程中
2024-10-18 13:42 伯东企业（上海）有限公司 企业号
上海伯东美国 KRi 霍尔离子源辅助镀膜 IBAD 应用上海伯东美国 KRi 霍尔离子源 EH 系列, 提供高电流低能量宽束型离子束, KRi 霍尔离子源可以以纳米精度来处理薄膜及表面, 多种
2023-05-11 13:26 伯东企业（上海）有限公司 企业号
