日前，ASML产品营销总监Mike Lercel向媒体分享了EUV（极紫外）光刻机的最新进展。
2021-03-19 09:39
10月14日，荷兰ASML（阿斯麦）公布了光刻机产品的最新进展。其中TWINSCAN NXE:3600D作为其目前研发中的最先进光刻机系统，终于敲定最终规格。
2020-10-15 09:47
、与 Mike在SEMICON 上的一些讨论以及 ASML 最近的财报电话会议中的一些内容。以分享了ASML光刻机的最新进展。
2023-07-30 10:39
前不久，台积电、三星电子已经爆出公司2nm芯片新进展，纷纷的寻求下一代 EUV 光刻机，今年台积电将实现3nm的量产，再往后就是在2025年量产2nm了，这也意味着现在2nm 技术战已经打响。
2022-07-05 10:05
本文主要介绍光刻机的分类与原理。 光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类，光刻设备有前道和后道之分。前道光刻
2025-01-16 09:29
目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术，EUV使用的是深紫外
2022-07-10 14:53
顶级光刻机有多难搞？ASML的光刻机，光一个零件他就调整了10年！拿荷兰最新极紫外光EUV光刻机举例，其内部精密零件多达10万个，比汽车零件精细数十倍！
2020-07-02 09:38
细菌电池新进展 第一个细菌电池可以追溯到1910年，英国
2009-10-28 13:11
不会有我们现在的手机、电脑了。 光刻机是用于芯片制造的核心设备，按照用途可以分为用于生产芯片的光刻机、用于封装的光刻机和用于LED制造领域的投影光刻机。
2021-07-07 14:31
光刻机的原理是接近或接触光刻，通过无限接近，将图案复制到掩模上。直写光刻是将光束聚焦到一个点上，通过移动工作台或透镜扫描实现任意图形处理。投影光刻是集成电路的主流
2022-07-10 15:28
