的不断提升，光刻机缩激光波长也在不断的缩小，从436nm、365nm的近紫外（NUV）激光进入到246nm、193nm的
2020-07-07 14:22
这几年我国频频传出有关22nm芯片的新闻，包括了光刻机、导航定位、蓝牙语音等领域，由此可见22nm技术所能够应用的范围十分广泛，不过目前国际上最先进的制程已近是4nm了
2022-06-29 11:06
Intel 22nm光刻工艺背后的故事 去年九月底的旧金山秋季IDF 2009论坛上，Intel第一次向世人展示了22nm工艺晶圆，并宣布将在2011年下半年发布相关产品。
2010-03-24 08:52
我国在半导体行业一直都处于落后状态，不过近几年已经慢慢地开始追赶上来了，在半导体设备这方面，我国的上海微电子已经成功研发出了深紫外光光刻机，这种光刻机能够进行22nm制程工艺的加工，也就是说在
2022-06-29 10:37
的要求则反过来，我们要确保影像要绝对清晰，就要将对焦点落在光阻上，并且确保光阻绝对不可落到景深范围之外。那ASML的光刻机景深有多大呢？ 所以我们就是要把光阻移到这个100nm的范围之内，是不是有点
2020-09-02 17:38
中芯国际接连取得突破，打破西方光刻机封锁，胜利女神在招手！在我国半导体行业内，一直存在着一个重大问题，那就是我国国产光刻机的精度仅为90nm，那么90
2020-04-10 17:52
ASML的EUV光刻机是目前全球唯一可以满足22nm以下制程芯片生产的设备，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻机必不可缺。一台EUV
2020-10-19 12:02
光刻机和euv光刻机区别是是什么呢？ duv光刻机和euv光刻机区别 1.基本上duv只能做到25nm，而euv能够做到
2022-07-10 14:53
22 nm 节距quasar illumination的较小部分使得最低衍射级避免了遮挡可以安全使用，但填充的pupil不到 20%，这再次意味着额外的聚光镜吸收和减少的吞吐量，如 0.33 NA 的情况。这种图案不
2022-08-10 11:36
22纳米意味着集成电路集成度会更高，一个晶圆（wafer）上可以流出更多的芯片，意味着原材料成本的分摊。
2022-06-29 11:06
