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  • 光刻机工艺的原理及设备

    这研发过程,Intel、三星、台积电这些半导体大厂的输血是绝对不少的。    作为全球唯一一家能EUV光刻机的厂家,ASML自然获得了大量的订单,截止至2019年第二季度,ASML的NEX

    2020-07-07 14:22

  • 光刻机是干什么用的

    十六分之一后成像(影像复制)在预涂光阻层的晶员(wafer)上。  对比相机和光刻机,被拍摄的物体就等同于微影制程的光罩,聚光镜就是单反镜头,而底片(感光元件)就是预涂光阻层的晶圆。    是的

    2020-09-02 17:38

  • 魂迁光刻,梦绕芯片,芯国际终获ASML大型光刻机 精选资料分享

    据羊城晚报报道,近日中芯国际从荷兰进口的一台大型光刻机,顺利通过深圳出口加工区场站两道闸口进入厂区,芯国际发表公告称该光刻机并非此前盛传的EUV光刻机,主要用于企业复

    2021-07-29 09:36

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    电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极 随着科技进步,对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关,电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长,而电子束聚焦后

    2025-05-07 06:03

  • 如果国家以两弹一星的精神投入光刻机

    如果国家以两弹一星的精神投入光刻机的研发制造,结果会怎样?

    2020-06-10 19:23

  • 三种常见的光刻技术方法

    微米之间,此间隙可以大大减少对掩膜版的损伤.接近式暴光的分辨率较低,一般在2~4微米之间,因此接近式光刻机只能装配在特征尺寸交大的集成电路生产线.接触或接近式光刻机的主要优点是生产效率较高。 ◆接触式

    2012-01-12 10:56

  • 5G承载网络需求与新技术进展

    近日在中国光谷”国际光电子博览会暨论坛(OVC EXPO2018)期间,“5G时代的信息通信产业高峰论坛”在中国光谷科技会展中心隆重举行。烽火通信技术专家马俊在现场发表了“5G时代的承载网络技术演进”的主题演讲,主要介绍了5G承载网络需求与新技术

    2021-02-03 07:58

  • 2021中国十大科技突破

    提高了火箭结构的可靠性。尤为重要的是,生产效率可提高30%以上,研制成本可降低20%以上。结语:2021年,中国在极端的国际大环境取得优异成绩,在一系列重大科技和高端

    2021-07-06 10:02

  • EUV热潮不断 中国如何推进半导体设备产业发展?

    ,购买或者开发EUV光刻机是否必要?中国应如何切实推进半导体设备产业的发展?EUV面向7nm和5nm节点所谓极紫外光刻,是一种应用于现代集成电路制造的光刻技术,它采用波

    2017-11-14 16:24

  • 直线电机的优点是什么

    加工仪器直线电机以其高速、高精度的特点,广泛应用于光刻机、IC 粘接机、IC 塑封等多种加工设备,而且单台设备往往需要多台直线电机。高速磁悬浮列车磁悬浮列车是直线电机实际应用的最典型的例子,美、英

    2021-08-26 06:01