非常想知道国产的芯片在性能和质量上与国外的同款相比如何?
2024-05-26 20:14
LED芯片,LED芯片的核心指标包括亮度、波长、失效率、抗静电能力、衰减等。目前国内LED封装企业的中小尺寸芯片多数选用国产品牌,这些国产品牌的芯片性能与国外品牌差距较小,具有良好的性价比,亦能满足
2015-09-09 11:01
和价格等方面的优势,国内厂家的竞争力将愈加强大。有统计数据显示,近年来中国变频器产品行业工业总产值增长迅速。在与国外知名变频器品牌的产品竞争中,业内人士认为国内变频器企业在巩固中低压变频器市场地位的同时
2014-04-18 15:37
超外差接收机的工作原理是什么?
2021-06-22 06:47
光刻机完成的。而台积电没有使用EUV光刻机的7纳米工艺要到今年底才能量产,英特尔会更晚些。使用EUV光刻机未来可升级到更先进的5纳米制程。这样看来,中国的IC制程技术比
2018-06-13 14:40
已经拥有一批成熟的工业芯片企业,技术越来越成熟,厂商越来越多,但总体比较分散,还未形成合力,综合竞争力和国外大厂对比起来还需要多学习,产品仍然集中在中低端市场。中国本土工业芯片厂商,产品还是以功率器件
2025-07-03 09:54
翁寿松(无锡市罗特电子有限公司,江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU:(1)美国俄勒冈州Fab PID厂,2007年下半年量产;(2)美国亚利桑那州Fab 32厂,投资30亿美元,2007年末量产;(3)以色列Fab 28厂,投资35亿美元,2008年上半年量产;(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂,投资10~15亿美元,从90 nm过渡至45 nm,它是英特尔产首座300 mm晶圆厂,也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上,英特尔将于2009年推出32nmMPU,2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存,3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
本人某985电子学院研一学生,我们导师在我刚来的时候就把一个课题给我去做,前期的材料与薄膜学长学姐们已经完成了,让我解决后期的光刻与器件制备等问题。本来我觉得是一个很好的锻炼自己的机会,就直接答应了
2018-02-27 15:47
航顺芯片HK32的烧录方式和速度完全与国外友商的芯片ST一样。
2018-08-31 16:07
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机,用的是什么制冷机?
2017-11-25 14:30