十六分之一后成像（影像复制）在预涂光阻层的晶员（wafer）上。 对比相机和光刻机，被拍摄的物体就等同于微影制程中的光罩，聚光镜就是单反镜头，而底片（感光元件）就是预涂光阻层的晶圆。 是的
2020-09-02 17:38
这研发过程中，Intel、三星、台积电这些半导体大厂的输血是绝对不少的。 作为全球唯一一家能EUV光刻机的厂家，ASML自然获得了大量的订单，截止至2019年第二季度，ASML的NEX
2020-07-07 14:22
据羊城晚报报道，近日中芯国际从荷兰进口的一台大型光刻机，顺利通过深圳出口加工区场站两道闸口进入厂区，中芯国际发表公告称该光刻机并非此前盛传的EUV光刻机，主要用于企业复
2021-07-29 09:36
系风格完全不同。国内伺服电机大部分厂家出于成本考虑，偏向日系设计。日系电机的零配件也相对能够找到，可以攒起来。驱动器相对技术稍差，但也有多个公司推出产品，很多要求高的公司不敢用，国内伺服电机与国外伺服电机的差距
2018-09-14 10:26
电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极 随着科技进步，对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关，电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长，而电子束聚焦后
2025-05-07 06:03
如果国家以两弹一星的精神投入光刻机的研发制造，结果会怎样？
2020-06-10 19:23
的观念与国外相比还有很大的差距。尤其是对在这个行业中拼搏奋斗了几十年的老总们，要能主动丢弃自己所熟悉、所习惯，自己过去行之有效的一些东西，而去接受一些更加现代的理念，是一个很大的课题。无论是企业老总们
2014-11-07 09:30
微米之间,此间隙可以大大减少对掩膜版的损伤.接近式暴光的分辨率较低,一般在2~4微米之间,因此接近式光刻机只能装配在特征尺寸交大的集成电路生产线中.接触或接近式光刻机的主要优点是生产效率较高。 ◆接触式
2012-01-12 10:56
LED芯片，LED芯片的核心指标包括亮度、波长、失效率、抗静电能力、衰减等。目前国内LED封装企业的中小尺寸芯片多数选用国产品牌，这些国产品牌的芯片性能与国外品牌差距较小，具有良好的性价比，亦能满足
2015-09-09 11:01
”。目前中国中微半导体的5 nm等离子体刻蚀机已经通过台积电验证，与国际刻蚀机巨头泛林、应用材料、东京电子、日立属于国际第一梯队，属于技术领先阵列，但是
2019-08-10 14:36
