：5000系列的高NA EUV曝光系统的基本设计，将应用于1nm光刻机，预计2022年即可商用。 责任编辑：xj
2020-12-07 17:07
11月30日最新报道，近日荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）又送来一则好消息，该司已经与比利时半导体研究机构IMEC共同完成了1nm光刻机的设计工作。 据了解，先进制程的
2020-12-09 09:35
电子发烧友报道（文/周凯扬）对于半导体的生产与制造来说，设施设备同样至关重要。设备决定了代工厂能否抢占更多的订单份额，以及垂直整合制造企业的产品竞争力与技术红利，能否弥补技术突破需要的巨大资金投入。
2020-12-02 08:14
想想几年前的全球半导体芯片市场，真的可谓哀嚎一片，一时间摩尔定律失效的言论可谓此起彼伏。但是在今天，我们不仅看到5nm工艺如期而至，台积电宣布2nm获得重大进展，就连光刻机的老大ASML也传来捷报，全球最先进的
2020-12-02 16:55
、1.5nm、1nm甚至Sub 1nm都做了清晰的路线规划，且1nm时代的光刻机体积将增大不少。 据称在当前台积电、三星
2020-11-30 15:47
越好，NA越大越好，这样光刻机分辨率就越高，制程工艺越先进。） 最初的浸入式光刻就是很简单的在晶圆光刻胶上加1mm厚的水，水可以把193
2020-07-07 14:22
的要求则反过来，我们要确保影像要绝对清晰，就要将对焦点落在光阻上，并且确保光阻绝对不可落到景深范围之外。那ASML的光刻机景深有多大呢？ 所以我们就是要把光阻移到这个100nm的范围之内，是不是有点
2020-09-02 17:38
光刻机和euv光刻机区别是是什么呢？ duv光刻机和euv光刻机区别 1.基本上duv只能做到25
2022-07-10 14:53
近日，在日本东京举办的ITF论坛上，与ASML合作研发光刻机的比利时半导体研究机构IMEC公布了3nm及以下制程在微缩层面技术细节。
2021-01-13 16:43
本月中旬，在日本东京举办了ITF论坛。论坛上，与ASML（阿斯麦）合作研发光刻机的比利时半导体研究机构IMEC公布了3nm及以下制程的在微缩层面技术细节。
2020-11-30 15:52
