早在2015年，南大光电入股北京科华并对外宣称，双方将共同开展193nm光刻胶的研究与产品开发；如今，或许进展不顺等原因影响，南大光电将全部转让其持有的北京科华股权。
2019-06-24 08:46
今日南大光电发布公告称，其控股子公司 “宁波南大光电”自主研发的 ArF（193nm）光刻胶产品近日成功通过客户的使用认证。报告显示，“本次认证选择客户 50nm 闪存产品中的控制栅进行验证，宁波南
2020-12-18 09:29
本文介绍了用来提高光刻机分辨率的浸润式光刻技术。 芯片制造：光刻技术的演进 过去半个多世纪，摩尔定律一直推动着半导体技术的发展，但当光刻机的光源波长卡在193nm，芯片制程缩小至65
2024-11-24 11:04
昊量光电联合法国Phasics公司推出全新一代193nm高分辨率（512x512）波前分析仪!该波前传感器采用Phasics公司专利技术-四波横向剪切干涉技术，可以工作在190-400nm波段
2024-11-27 11:46 上海昊量光电设备有限公司 企业号
翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特
2019-07-01 07:22
芯片制程的演化，从微米、亚微米、深亚微米，到193nm、157nm、90nm，再到最近几年的12nm、7
2022-07-01 16:07
基准电压芯片REF193资料下载内容主要介绍了：REF193功能和特性REF193引脚功能REF193典型应用电路
2021-03-26 07:41
光刻机是制作芯片的关键设备，利用光刻机发出的紫外光源通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的硅片曝光，使光刻胶性质变化、达到图形刻印在硅片上形成电子线路图。我国目前还是采用什深紫外光的193nm制程工艺，如上海微电子装备公司（CMEE）制程90
2022-06-30 09:46
芯片行业从20世纪90年代开始就考虑使用13.5nm的EUV光刻（紫外线波长范围是10~400nm）用以取代现在的193nm。EUV本身也有局限，比如容易被空气和镜片材
2019-10-01 17:12
近日，南大光电在互动平台上表示，参股公司北京科华开发的248nm光刻胶目前已通过包括中芯国际在内的部分客户的认证。
2019-05-28 11:13
