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  • 光刻机工艺的原理及设备

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  • 魂迁光刻,梦绕芯片,中芯国际终获ASML大型光刻机 精选资料分享

    据羊城晚报报道,近日中芯国际从荷兰进口的一台大型光刻机,顺利通过深圳出口加工区场站两道闸口进入厂区,中芯国际发表公告称该光刻机并非此前盛传的EUV光刻机,主要用于企业复

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    光刻机本身的原理,其实和相机非常相似,同学们可以把光刻机就想成是一台巨大的单反相机。相机的原理,是被摄物体被光线照射所反射的光线,透过相机的镜头,将影像投射并聚焦在相机的底片(感光元件)上,如此便可

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    2020-06-10 19:23

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    2020-03-09 10:13

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    是分步投影光刻机.利用分步投影光刻机,再结合移相掩膜等技术,已经得到了最小线宽0.10微米的图形。 ◆接近式暴光与接触式暴光相似,只是在暴光时硅片和掩膜版之间保留有很小的间隙,这个间隙般在10~25

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    2020-02-27 10:42

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  • EUV热潮不断 中国如何推进半导体设备产业发展?

    ofweek电子工程网讯 国际半导体制造龙头三星、积电先后宣布将于2018年量产7纳米晶圆制造工艺。这消息使得业界对半导体制造的关键设备之极紫外光刻机(EUV)的

    2017-11-14 16:24