，光源是ArF（氟化氩）准分子激光器，从45nm到10/7nm工艺都可以使用这种光刻机，但是到了7nm这个节点已经的DUV光刻的极限，所以Intel、三星和台积电都会在7nm这个节点引入极紫外光（EUV
2020-07-07 14:22
刻蚀机不能代替光刻机。光刻机的精度和难度的要求都比刻蚀机高出很多，在需要光刻机加工的时候刻蚀机有些不能办到，并且刻蚀机的精度十分笼统，而光刻机对精度的要求十分细致，所以
2022-02-05 15:47
这次美荷谈判的重点就是193nm ArF dry 光刻机，如果这类型设备也不能卖，对asml来说那差距将达到一百台，40亿美金左右的销售额。
2022-12-16 12:04
光刻机是制作芯片的关键设备，利用光刻机发出的紫外光源通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的硅片曝光，使光刻胶性质变化、达到图形刻印在硅片上形成电子线路图。我国目前还是采用什深
2022-06-30 09:46
！光刻机本身的原理，其实和相机非常相似，同学们可以把光刻机就想成是一台巨大的单反相机。相机的原理，是被摄物体被光线照射所反射的光线，透过相机的镜头，将影像投射并聚焦在相机的底片（感光元件）上，如此便可
2020-09-02 17:38
ASML的EUV光刻机是目前全球唯一可以满足22nm以下制程芯片生产的设备，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻机必不可缺。一台EUV光刻机的售价为1.48
2020-10-19 12:02
光刻机是芯片制造的核心设备之一，作为目前世界上最复杂的精密设备之一，其实光刻机除了能用于生产芯片之外，还有用于封装的光刻机，或者是用于LED制造领域的投影光刻机。目前，
2020-03-18 11:12
光刻机和euv光刻机区别是是什么呢？ duv光刻机和euv光刻机区别 1.基本上duv只能做到25nm，而euv能够做到10
2022-07-10 14:53
光刻机价格高达1.2亿美元，比一架波音737都贵。 下面是最近ASML公布的极紫外光光刻机内部加工时的镜头，十分震撼： 在这台光刻机中，每秒在真空环境中，从底部容器流出
2020-10-15 09:20
本文主要介绍光刻机的分类与原理。 光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类，光刻设备有前道和后道之分。前道光刻
2025-01-16 09:29
